不同于現(xiàn)有的CMOS和非晶硅成像技術(shù),本項(xiàng)目采用國際公認(rèn)的下一代平板探測器基板技術(shù)——金屬氧化物基板技術(shù)。不僅具有成本優(yōu)勢,而且讀取速度更快,分辨率更高,X光劑量更低,信噪比更好,基板尺寸更大,適用于中高端X光平板探測器。搭配無機(jī)鈣鈦礦閃爍體技術(shù),更可以引領(lǐng)下一代射線成像技術(shù)革命,在醫(yī)學(xué)成像、無損檢測、安全檢查、放射性防護(hù)、天體研究、地質(zhì)勘探、高能物理研究等領(lǐng)域擴(kuò)展更多應(yīng)用。
目前已經(jīng)成功生產(chǎn)金屬氧化物平板探測器樣品,并向客戶開始送樣